Hiden사의 EQP 플라즈마진단시스템 EQP 시스템의 특징 EQP 시스템 Operating Mode EQP DATA EQP MASsoft Software Operating Modes EQP Systems for Plasma Applications in Etching-Deposition-Coating-Process Development Other Equipments for Plasma Diagnostics EQP 시스템의 특징 Hiden EQP 시스템은 특정 이온 에너지에서의 mass spectra와 선택된 플라즈마 이온의 이온 에너지 분포를 얻을 수 있는 높은 투과 이온에너지 분석기와 사중 극자 질량분석기가 결합된 한 단계 발전된 플라즈마 진단 도구이다. 앞선 기술의 EQP ionizer는 중성물질과 라디칼을 검출 가능케 하고, 음전하의 플라즈마 화학분야(electronegative plasma chemistries)에서 라디칼에 대한 검출 능력(detection capability)을 보다 향상시킨 전자 부착 이온화 방식 (electron attachement ionization feature, electron attachment mass spectrometry)을 제공한다. High Sensitivity 이온들, 중성물질과 라디칼의 ppm 이하의 단위에서 검출. Ion Energy Analysis 플라즈마 이온들에 대한 이온에너지 분포를 수초내에 얻을 수 있으며, 100eV와 1000eV 에너지 범위의 모델이 제공된다. Afterglow, Pulsed Plasma, and Laser Ablation 표준 TTL signal gating input은 time resolved 연구에 포함된다. 1 마이크로초만큼 짧은 시간 동안 플라즈마 pulses와 플라즈마 plumes 분석이 가능하다. Positive and Negative Ion Measurement 미리 설정된 software Mode에 의해 양이온, 음이온과 중성물질 분석 Mode간의 즉각적인 switching이 가능하다. Neutral and Rdical Detection EQP integral electron impact ionizer에 의해 중성물질과 래디컬종들의 분석이 가능하다. Appearance Potential Spectra EQP 이온화 장치는 선택된 종들의 appearance potential spectra에 대해 모든 이온 source 변수들- 전자에너지(electron energy)를 정확히 판독할 수 있는 장치 포함- 에 대한 정밀한 통제로 특징지어진다. Appearance potential spectra를 통하여 플라즈마 중성 물질종들의 여기 상태(excitation state)와 깨짐상태(fragmentation state)를 확인할 수 있는 직접적인 정보를 얻을 수 있다. Electron Attachment Ionization Feature Soft 이온화의 신기술은 플라즈마에서 음전하(electronegative) 종들의 분석을 위해 option으로서 제공되며 중성물질과 래디칼의 분석을 좀더 향상 시킨다.