일반 화학공정 반응 시 사용하며, 사용자가 원하는 온도 및 반응조건으로 컨트롤하여 편리하게 사용 가능
고압 반응 시 사용하며, 고압반응 조건 하(최대 6bar)에서 사용자가 원하는 조건으로 컨트롤하여 사용 가능
진공 반응 시 사용하며, 최대 25mbar의 진공상태에서 사용자가 원하는 조건으로 컨트롤하여 사용 가능
