High-pressure Xenon 램프는 형광 분광기에서 안정적 상태(Steady-state)의 시료 측정을 위해 가장 많이 사용하고 있는 광원으로 원리는 이온화된 Xe원자와 전자의 재결합을 통해 연속적인 빛을 방사 하며, 보통 200nm~900nm의 방출 파장대 영역을 갖는다. 450nm 부근과 800nm 부근에 뾰족한 특성 peak를 보인다. (그림 1의 오른쪽 참조)
수명은 약 2000 시간이며, 그림 2의 오른쪽과 같이 compact Xenon lamp도 있다.

[그림 2.] High-pressure Xenon(왼쪽) 과 compact Xenon lamp(오른쪽)
(Principles of Fluorescence Spectroscopy, 3rd Ed., Joseph R.Lakowicz 에서 발췌함.)

High-Pressure Xenon 램프는 형광 분광기 외에 일반 분광기, 액체 크로마토그래피, 현미경, 색차계, Solar simulator 등의 다양한 장비에서 광원으로 사용된다.

Pulsed Xenon Lamp는 보통 소형 형광 분광기와 Plate reader에 널리 사용된다.(그림5 참조) 이 램프는 연속 High-pressure Xenon (Xe) Lamp 비교 할 때 특성 피크의 수가 많으며, UV영역의 빔의 세기가 높고, 비교적 전력소모와 열 방출이 낮으며, 시료의 광 분해에 의한 영향을 줄일 수 있다.

[그림 3.] Pulsed Xenon lamp와 펄스화된 빛의 방사 모양
(http://www.hamamatsu.com/ 에서 발췌함.)

수명은 109 Flash count 정도 이며, Trigger 신호에 따라 일정한 간격으로 빛을 방출 시킨다. 일정한 간격으로 나누어진 빛의 신호를 정확하게 측정하기 위해서는 광원과 검출기간의 Trigger 신호에 의한 동기화가 필요하다. (그림 4. 참조)

[그림 4.] Pulse Xenon Lamp와 검출기 간의 동기화
(http://www.hamamatsu.com/ 에서 발췌함.)

[그림 5.] Pulse Xenon lamp의 활용 예
(http://www.hamamatsu.com/ 에서 발췌함.)

이 광원은 Xenon lamp 보다 자외선 영역의 세기가 높고 방출파장에서 Hg line의 특성피크를 보인다. 처음 램프를 점등하면 Xe과 관련된 영역의 빛의 파장이 방출되고 서서히 램프의 온도가 높아 지면서 Hg 영역의 빛의 파장 세기가 증가한다. 이 광원은 형광 분광기외에 반도체 웨이퍼 검사 시스템, 리소그래픽 장비, 형광 현미경, 혈액 분석기 등에 널리 사용된다.

[그림 6.] Xe-Hg Arc Lamp와 방출 파장
(http://www.hamamatsu.com/ 에서 발췌함.)