Introduction
Pellicle은 마스크(Mask)와 레티클(Reticle) 표면을 대기중 분자나 다른 형태의 오염으로부터 보호해주는 박막이다. 막은 양극 산화된 알루미늄 프레임에 부착된 후 다시 레티클 위에 단단히 부착되어진다. 일반적으로 Pellicle은 반도체 노광장비, 프로젝션 얼라이너(Projection Aligner)에서는 레티클의 한쪽 크롬(Cr) 면에, 스텝퍼(Stepper)에서는 레티클의 크롬면과 유리면 양쪽에 부착되어 웨이퍼 이미지에 영향을 주지 않도록 한다.

Usage
- 반도체 제품 수율의 향상
- 포토마스크의 오염으로부터 보호
- 포토마스크의 사용 수명 연장
- 포토마스크 세정 주기의 연장
- 반복적인 포토마스크의 사용시 오염원으로부터의 격리

Reagents & Apparatus
 1. S-4100 (PDA UV-Vis Spectrophotometer)
 2. Pellicle Sample

Experiment set up
 Data Type : Transmittance
 Mode : Scan No. 20

실험 1. Transmittance of Pellicles
Procedure
 1. Blank를 측정한다.
 2. Pellicle 시료의 투광도를 측정한다.
 3. Result Window에서 원하는 파장의 투광도를 확인한다.

Result
Pellicle의 투과도를 Random하게 측정한 결과를 표 1에 보여주고 있다.
193nm와 248nm에서의 10회 투과도 측정한 표준편차는 각각 0.0085, 0.0211로 나타났다.